获取报价
即刻留言 
添加微信咨询报价
服务热线
191-3809-6664
若需定制自动进出料旋转PECVD设备，需从核心功能模块、关键技术参数、定制化设计要点三个维度进行综合考量，下面就来详细看看吧！
一、核心功能模块配置
旋转系统
炉管旋转：需支持360°匀速旋转，转速范围建议0-20rpm连续可调，确保粉体或颗粒物料在沉积过程中均匀翻转，避免局部过热或沉积不均。
搅拌系统：可选配独立搅拌转动装置，通过搅拌挡片或螺旋结构进一步促进物料混合，提升薄膜均匀性。
倾斜系统：炉体需支持大角度倾斜，便于快速进出料，减少人工操作时间，尤其适合批量生产场景。
自动进出料系统
进料端：采用“进料罐+送料机构”设计，通过气动或机械方式将物料输送至炉管内，避免人工接触污染。
出料端：配置“收集罐+手动辅助升降组件”，沉积完成后自动收集物料，同时支持手动调整出料高度，适应不同规格容器。
密封设计：进出料口需采用KF25或ISO标准法兰接口，配合真空密封圈，确保沉积过程中维持低气压环境，防止气体泄漏影响薄膜质量。
真空与气体控制系统
真空系统：由机械泵和真空计组成，快速抽真空至工艺要求压力，并实时监测腔体真空度。
气体供应：配置1-5路高精度质量流量计，支持多种工艺气体（如SiH₄、NH₃、N₂等）的混合与流量控制，满足不同薄膜沉积需求。
排气系统：出气端设球阀控制排气速率，同时预留KF25抽口，可连接尾气处理装置，确保环保合规。
加热与温控系统
加热方式：根据温度需求选择电阻丝（≤1200℃）或硅碳棒（1200-1400℃），加热元件需均匀分布在炉管周围，确保温场均匀性（±5℃）。
温控系统：采用模糊PID控制算法，支持30段可编程温度曲线，实时显示并记录温度数据，具备超温报警和断偶保护功能。
冷却系统：可选配风冷或水冷装置，加速炉体降温，缩短生产周期。
射频与等离子体系统
射频电源：输出功率连续可调，支持自动匹配网络，确保等离子体稳定激发。
等离子体监控：通过光谱分析或电流电压监测实时反馈等离子体状态，结合机器学习算法实现动态工艺闭环控制，提升薄膜质量。
二、关键技术参数要求
温度范围：根据工艺需求选择，如电池材料处理需950-1000℃，半导体薄膜沉积需1200-1400℃，高温应用（如陶瓷烧结）需≥1500℃。
压力范围：可调，适应不同气体反应条件。
旋转精度：转速控制精度，确保物料翻转均匀性。
温控精度：±1℃，避免温度波动影响薄膜性能。
气体流量精度：确保气体比例准确。
设备尺寸：根据生产空间定制，需预留操作与维护空间。
三、定制化设计要点
炉管材质与尺寸
材质：根据工艺温度选择高纯石英（≤1200℃）或陶瓷纤维（≥1500℃），避免高温下挥发污染样品。
尺寸：根据物料量定制炉管长度与直径，如异形管Φ60x100x1200mm，内部可焊接搅拌挡板或螺旋结构，提升物料混合效果。
自动化控制软件
操作界面：可采用全触屏设计，支持中文/英文切换，直观显示温度、压力、转速等参数。
工艺编程：支持多段工艺曲线设置与存储，可预约无人值守运行，并导出实验数据（如USB接口或网络传输）。
安全保护：集成超温、断偶、漏电、过压等报警功能，确保设备安全运行。
扩展接口与兼容性
预留接口：如KF25、ISO法兰等，便于连接尾气处理、真空规管、光谱仪等外围设备。
通信协议：支持Modbus、TCP/IP等工业通信协议，可接入工厂自动化生产线，实现远程监控与数据采集。
维护与升级
模块化设计：加热元件、射频电源、真空泵等关键部件采用模块化设计，便于快速更换与维护。
软件升级：提供固件与软件升级服务，持续优化设备性能与功能。点击了解更多定制PECVD电炉！或者点击咨询在线客服定制各种不同型号电炉！
联系方式
邮件：3388199388@qq.com