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  • RTP快速退火炉-百科RTP(Rapid Thermal Processing)快速退火炉是一种用于半导体材料处理的设备,其主要特点是在极短的时间内将硅片加热至特定的温度范围,通常为400~1300℃。这种快速热处理技术相比传统的炉管退火方法,具有诸多优势。

    03-11

  • PECVD设备在选择时有哪些需要注意的?PECVD设备是一种用于制备薄膜材料的特殊设备,其工作原理类似于化学气相沉积(CVD),但在反应室中引入了等离子体以增强沉积过程。那么在选择PECVD设备的时候有哪些注意事项呢?

    03-07

  • CVD炉在选型时应该注意什么?CVD系统,全称为Chemical Vapor Deposition系统,即化学气相沉积系统。它是一种重要的材料制备技术,主要用于在固态基材上沉积一层薄膜。这种技术涉及将气态或蒸汽态的物质通过化学反应转化为固态物质,并沉积在基材表面。在选择适合的化学气相沉积(CVD)炉时需要考虑多个因素,才能选择出适合自己需求的设备。一般在选择CVD炉时应该注意以下几点。

    03-06

  • 什么是滑道管式炉?滑道管式炉-百科滑道管式炉是一种特殊的管式炉,其特点在于具备滑道机构,可以实现炉子的快速移动和定位。

    03-05

  • 立式管式炉-百科立式管式炉是一种高温加热设备,其炉体呈立式结构,主要由炉壳、炉管、加热元件、温度控制系统等组成。炉管是立式管式炉的核心部件,通常采用高纯度的石英玻璃或陶瓷材料制成,能够承受高温和腐蚀。加热元件一般采用电阻丝或电热管,通过电流加热炉管内的物料。温度控制系统则负责监测和控制炉内的温度,保证实验的准确性和稳定性。

    03-01

  • 为什么要用多温区管式炉?多温区管式炉有什么优势?多温区管式炉是一种采用多温区控制的加热设备,它在加热过程中具有许多优势。多温区管式炉在使用时有什么优势呢?

    02-29

  • 什么是热压烧结?热压烧结都应用在哪里?热压烧结(Hot Pressed Sintering)是一种将干燥粉料充填入模型内,再从单轴方向边加压边加热,使成型和烧结同时完成的一种烧结方法。这种方法的特点在于加热和加压同时进行,使得粉料处于热塑性状态,有助于颗粒的接触扩散、流动传质过程的进行。因此,成型压力仅为冷压的1/10,同时还能降低烧结温度,缩短烧结时间,从而抵制晶粒长大,得到晶粒细小、致密度高和机械、电学性能良好的产品。此外,热压烧结还可以生产超高纯度的陶瓷产品,无需添加烧结助剂或成型助剂。

    02-26

  • PECVD等离子增强化学气相沉积系统-百科PECVD系统是一种基于等离子体化学气相沉积技术的薄膜沉积设备,主要用于在各种材料表面沉积薄膜,包括金属、半导体、绝缘体等。该系统主要由等离子体源、反应室、气体进料装置、真空泵等部分组成。

    02-23

  • 旋转管式炉的应用领域旋转管式炉由于其特殊的设计和优势,在许多工业领域中都有广泛的应用。旋转管式炉主要应用在哪些方面呢?

    02-21

  • 箱式烧结炉-百科箱式烧结炉是一种用于烧结各种粉体材料的热处理设备,广泛应用于冶金、陶瓷、化工、电子等行业。它采用高温炉膛和加热元件,通过精确控制温度和时间,使粉体材料在高温下发生热化学反应,形成坚固的烧结体。

    02-19

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