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产品介绍:
1200℃ CVD化学气相沉积镀膜系统工作温度为300℃至1200℃，配备真空泵，气体混合装置。采用了温度控制系统，高温精度，出色的气体流量精度，易于操作，有非常好的隔热效果和温度均匀性。更多CVD设备可点击更多查看。
1200度CVD化学气相沉积镀膜设备实拍图
产品应用:
1200℃ CVD化学气相沉积镀膜系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
产品参数:
| 产品名称 | 化学气相沉积系统 |
| 产品型号 | KJ-TCVD1200-S80LK1 |
| 管式炉部分 | |
| 炉膛模式 | 开启式 |
| 显示模式 | LED |
| 炉膛材料 | 氧化铝耐火纤维 |
| 加热元件 | 合金加热丝 |
| 极限温度 | 1200℃ |
| 工作温度 | ≤1100℃ |
| 升温速率 | 0-10℃/min |
| 加热温区 | 单温区 |
| 温区长度 | 440mm |
| 炉管材质 | 高纯石英 |
| 炉管外径 | 80mm |
| 炉管长度约 | 1000mm（以实际供货为准） |
| 密封方式 | 可重复拆装的不锈钢密封法兰。拆装方便，密封性好 |
| 控制模式 | 智能PID控制，具有多段可编程控温和自整定功能 |
| 温度曲线 | 多段"时间—温度曲线"任意可设 |
| 报警 | 有超温和断偶报警 |
| 测温元件 | K型热电偶 |
| 供电电源 | 220V 50Hz |
| 加热功率约 | 4KW |
| 供气系统 | |
| 流 量 计 | 三路质量流量计（量程可根据需要选择） |
| A路量程 氮气 | 0～1000SCCM |
| B路量程 甲烷 | 0～500SCCM |
| C路量程 乙烯 | 0～1000SCCM |
| 混气 | 内含一个精密混气罐 |
| 供电电源 | 220V 50HZ |
| 工作环境温度 | 5℃-45℃ |
| 真空系统(含不锈钢波纹管和相关连接配件) | |
| 真空泵抽速 | 2L/S抽速的机械旋片泵、波纹管及相关连接件，极限真空可实现10pa |
| 数显真空计 | 数显电阻真空计集成在可移动供气系统箱体上 |
| 配用规管 | 电阻规 |
| 测量范围 | 1.0×105—1.0×10-1 (Pa) |
| 测量精度 | ±10% |
| 零点漂移 | ±2% |
| 测量路数 | 1路 |
| 显示路数 | 1个窗口 |
| 显示方式 | 五位LED数字显示，采用科学计数法，例：1.2E－1，表示为1.2×10-1Pa |
| 电源 | AC/220V/50Hz/15W |
| 整机外形尺寸约 | 含真空泵，宽1000*深600mm*高1000mm |
1200度CVD化学气相沉积镀膜设备实拍图
1200度CVD化学气相沉积镀膜设备实拍图