等离子体增强化学气相沉积系统PECVD-郑州科佳电炉

产品简介:

KJ-T1200-S6030-PE（等离子体增强化学气相沉积系统）由外径60mm的滑道式管式炉，3路质量流量计混气系统，300W射频电源系统和真空系统组成。

此款设备配有Plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置，可准确的控制反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压CVD非常简单实用，工艺重复性好，对于石墨烯生长工艺非常合适，也同样适用于要求快速升降温的CVD实验。

主要用途：

高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备，生长薄膜石墨烯、金属薄膜、陶瓷薄膜、复合薄膜等，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

技术参数:

产品名称		等离子体增强化学气相沉积系统PECVD
型号		KJ-T1200-S6030-PE
	炉体结构	滑轨式
	最高工作温度	1200℃
	持续工作温度	≤1100℃
	加热速率	最高20℃/min （建议10℃/min）
	加热区长度	300mm 单温区(可根据客户需求定制)
	加热元件	含钼电阻丝
	热电偶	N 型
	控温精度	±1℃
	炉管尺寸	炉管直径Φ50，Φ60，Φ80都可用(可根据客户需求定制)
		材质: 高纯石英
	温度控制器	PID智能程序控温
	真空法兰	真空法兰采用304不锈钢制作 · 左端法兰上安装由不锈钢针阀和一个球阀。 · 右端法兰设计为KF25接口，配有挡板阀和两个KF25卡箍注：法兰可选结构，标准螺丝法兰，快接KF法兰，铰链法兰
	真空泵系统	旋片真空泵带数字真空计（包含KF25接口和可移动箱体）	极限真空度 10-3 Torr. 炉管内真空度 10-2 Torr.抽速: 4CFM (2L/S, 120L/min)
冷却方式	强制风冷
质量流量计	3路高精度质量流量计: 量程： MFC 1: 0-100 sccm MFC 2: 0-500 sccm MFC 3: 0-1000 sccm 底部安装有一个混气罐，左侧安装有3个不锈钢针阀，可手动控制3种气体的流量。 (图片仅供参考)
注意事项	炉管内气压不可高于0.02MPa · 由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加准确安全 · 当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态 · 进入炉管的气体流量需小于200SCCM，以避免冷的大气流对加热石英管的冲击 · 石英管的长时间使用温度＜1100℃ 对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生（如炉管破裂，法兰飞出等）
质保	一年质保期相关耗材除外，如加热元件，密封圈等易耗件

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等离子体增强化学气相沉积系统PECVD